एसिड ग्रेड फ्लोरोस्पायर 97% फ्लोराइट उपयोग

माओहे आयात और निर्यात (तियानजिन) कं, लिमिटेड मंगोलिया के उत्पत्ति के फ्लोरस्पार खनन, प्रसंस्करण और व्यापार में विशेषज्ञता प्राप्त है। हमारे पास 70% से 99% तक फ्लोराइट कैएफ 2 की खदान प्रत्यक्ष आपूर्ति है।

एसिड ग्रेड फ्लोरोस्पाट (न्यूनतम CaF2 97%) फ्लोरोकेमिकल उद्योग के लिए बुनियादी कच्चे माल के रूप में कार्य करता है। यह निर्जल हाइड्रोजन फ्लोराइड (AHF) का उत्पादन करने के लिए केंद्रित सल्फरिक एसिड के साथ प्रतिक्रिया करता है।

हमारे सामान्य विश्लेषण प्रमाण पत्र इस प्रकार है:

अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न:एचएफ रिएक्टर संक्षारण और एचएफ उपज पर अशुद्धियों के प्रभाव क्या हैं?

एसिड ग्रेड फ्लोरोस्पाट में मौजूद अशुद्धियां एचएफ उपज को कम करती हैं और दो प्राथमिक तंत्रों के माध्यम से एचएफ रिएक्टरों के संक्षारण को तेज करती हैंः उपलब्ध फ्लोरिन की खपत, अत्यधिक संक्षारक उप-उत्पादों का गठन,और अस्थिर प्रतिक्रिया परिस्थितियों.

मुख्य तंत्र

त्वरित क्षरण

नमी (महत्वपूर्ण खतरा), सिलिका (SiF4 और H2SiF6 बनाने), सल्फाइड (SO2 और एसिड कोहरे पैदा करने) और धातु अशुद्धियां सामूहिक रूप से धातु सतहों पर निष्क्रिय सुरक्षात्मक फिल्म को तोड़ती हैं,स्थानीय पिटिंग जंग और तनाव जंग दरार को ट्रिगर करना.

प्रक्रिया उपज में कमी

अशुद्धियों और निर्मित एचएफ के बीच के दुष्प्रतिक्रियाओं ने सीधे हाइड्रोजन फ्लोराइड गैस के उत्पादन में कटौती की।अशुद्धियों के कारण होने वाली असंगत फ़ीड संरचना से फ्लोरोस्पाट का अपूर्ण रूपांतरण भी होता है।, व्यावहारिक उपज को और कम करता है।

प्रमुख अशुद्धियों के विस्तृत प्रभाव

आर्द्रता (H2O)

यद्यपि फ्लोरोस्पाट का ग्रिड अशुद्धता नहीं है, तरलता आम तौर पर कच्चे अयस्क में प्रवेश करती है। उच्च तापमान अम्लीय परिस्थितियों में,तेजी से वाष्पीकरण सामग्री के छपने का कारण बनता है और सल्फरिक एसिड खुराक अनुपात को परेशान करता हैयह धातु निष्क्रियता को बाधित करके और अम्लीय धुंध के गठन को बढ़ावा देकर रिएक्टर क्षरण में तेजी लाने में मुख्य योगदानकर्ता है, जो पाइपलाइन नेटवर्क में क्षरण को तेज करता है।

सिलिकॉन (SiO2)

सिलिकॉन साइड रिएक्शन के माध्यम से उत्पन्न HF के साथ प्रतिक्रिया करता हैः SiO2 + 4HF → SiF4↑ + 2H2O यह सीधे HF का उपभोग करता है और लक्ष्य उपज को कम करता है।गठित सिलिकॉन टेट्राफ्लोराइड आर्द्र वातावरण में हाइड्रोलिसिस करता है ताकि फ्लोरोसिलिक एसिड (H2SiF6) का उत्पादन हो सके, एक अत्यधिक संक्षारक पदार्थ है जो कम तापमान वाले वर्गों में संघनक और अवरुद्ध होने के लिए प्रवण है। जमाव गैस प्रवाह वितरण को बदलता है और कटाव-संक्षारण को बढ़ाता है।

सल्फाइड और कार्बोनेट

थर्मल अपघटन के बाद, ये अशुद्धियां SO2, CO2 और सल्फरिक एसिड धुंध छोड़ती हैं।परिणामी अत्यधिक ऑक्सीकरण वाले अम्लीय वातावरण से कार्बन स्टील और कम मिश्र धातु वाले स्टील के रिएक्टर शेल का क्षरण तेज होता हैवॉल्यूमिनस गैस उत्पादन भी ऑपरेटिंग दबाव में उतार-चढ़ाव को ट्रिगर करता है, प्रतिक्रिया संतुलन को परेशान करता है।

भारी धातुएं (आर्सेनिक, सीसा आदि)

ये अस्थायी फ्लोराइड जैसे AsF3 बनाते हैं। जबकि वे गंभीर प्रत्यक्ष रिएक्टर संक्षारण का कारण नहीं बनते हैं, वे कच्चे HF को दूषित करते हैं और सुधार भार को बढ़ाते हैं, समग्र प्रणाली स्थिरता को कम करते हैं।कुछ धातु आयन भी अवांछित दुष्प्रतिक्रियाओं को उत्प्रेरित कर सकते हैं.

औद्योगिक परिणाम

उपज प्रदर्शन

SiO2 सामग्री में प्रत्येक 1% वृद्धि HF खपत के कारण सैद्धांतिक HF उपज को लगभग 0.5%~0.8% कम करती है।अशुद्धियों के कारण होने वाली फ़ीड की असंगत गुणवत्ता व्यावहारिक रूपांतरण दक्षता में अतिरिक्त 2%~5% की हानि का कारण बन सकती है.

उपकरण की अखंडता

उच्च अशुद्धियों वाले कच्चे माल ऑपरेटेबल तापमान खिड़की को संकुचित करते हैं। इससे रिंग के गठन और रिएक्टर की दीवारों पर सामग्री के क्लैकिंग का खतरा बढ़ जाता है, जिसके परिणामस्वरूप स्थानीय ओवरहीटिंग होता है,घुमावदार भट्टियों या एचएफ रिएक्टरों का गंभीर क्षरण और कम सेवा जीवन.

एसिड ग्रेड फ्लोरोस्पाट को कम से कम 97% कैफ2 सामग्री के साथ औद्योगिक रूप से निर्दिष्ट किया गया है। कच्चे माल की लागत को संतुलित करने के लिए SiO2 और अन्य अशुद्धियों पर सख्त नियंत्रण की आवश्यकता है,उपकरण रखरखाव व्यय और उपज हानि.